掩膜版LCVD修复设备主要是使用激光诱导化学气相沉积（LCVD）技术来修复掩膜版上的缺陷。SEMISHARE LD14系列，沉积厚度范围广，修补精度高，亚微米级激光精度能够有效应对极小间距掩膜版，能为高价值掩膜版mask缺陷提供高精度修复解决方案，更大程度的节约企业的生产制造成本。
| 产品型号 | LD14 | 工作环境 | 封闭式 |
| 电力需求 | AC 220V ±5% 50Hz | 操控方式 | 全自动 |
| 产品尺寸 | 可定制 | 设备重量 | 可定制 |
可以用来填补掩膜版上的缺失部分或修复图案。这种技术通常用于修复线路开路和短路等问题。
●对不同厚度且跨度较大的产品，更换产品时，无需手动调整，设备能够自动适应沉积头高度调整。
●废气回收处理，高达数十层的高温滤网，能够充分拦截分解废气中的有害成分，并经冷却后汇入至厂内废气管路。
●能够根据客户需求，提供定制化产品。
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项目 |
说明 |
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处理时间 (1 处缺陷 /片 ,包括定位时间) |
15 秒 |
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面板尺寸范围 |
5”-14” |
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面板厚度 |
0.1-5mm |
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运动分辨率 |
±0.1μm |
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重复定位精度 |
±1μm |
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Slit精度 |
≤±1μm |
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自动聚焦物镜切换中心偏移 |
≤±1μm |
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沉积参数 |
沉积模式：Scan扫描式 和 Step 步进式 |
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沉积形状：矩形和圆形，长宽边长或者直径 可以调整并且能够通过软件显示该光斑的实 际尺寸 |
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step沉积矩形尺寸范围： 3μm*3μm~30μm*30μm,调节精度1μm |
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沉积边缘精度 |
±0.5μm |
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沉积厚度 |
2000 ? ~15000?可调 |
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最大总功率 |
3.5KW |
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电源 |
AC 220V ±5% 50Hz |
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UPS |
1000VA/500W 3-20分钟（半载） |
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耗材 |
压缩空气CDA（0.6Mpa ,0~1L/min） |
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高纯 氩气Ar（0.6Mpa ,0~5L/min） |
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高纯 Cr(CO)6 （纯度高于99.8%）高纯 W(CO)6 （纯度高于99.8%）或者 Mo(CO)6（纯度高于99.8%） |
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设备主体尺寸 |
1230*1390*2410 |
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电脑配置 |
i5-6500CPU、8GDDR4内存、128G固态盘+1T机械硬盘、300W工业级电源、测试版win1064位系统、PCIeX16、PCIeX4、PCI槽X5,主板千兆网口X2,串口X6 |
暂无数据
